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Nuevo método para crear chips más finos

[13/04/2009] Los investigadores del Massachusetts Institute of Technology (MIT) señalan que han tenido un avance importante con la tecnología de la luz, que eventualmente podría ayudar a los fabricantes de chips a crear circuitos más finos.

Los investigadores han obtenido una forma de enfocar un haz de luz en una escala mucho más pequeña de la que anteriormente era posible, permitiendo a los fabricantes de chips grabar circuitos incluso más pequeños en sus chips, señala Rajesh Menon, ingeniero de investigación en el departamento de ingeniería eléctrica y ciencias de la computación del MIT.
Los fabricantes de chips dependen de la luz para dibujar patrones de circuitos, pero la mayor parte de las técnicas usadas hoy no pueden producir los patrones que son más pequeños que la longitud de onda de la propia luz.
Los investigadores del MIT lograron una forma de dibujar líneas extremadamente finas combinando rayos de luz a diferentes longitudes de onda. Usaron los llamados patrones de interferencia, en los cuales diferentes longitudes de onda algunas veces se refuerzan unas a otras, y en otras ocasiones se cancelan unas a otras.
Afirman que la técnica, que se encuentra a muchos años de un uso comercial, podría permitir a los fabricantes de chips construir interconectores y transistores tan pequeños como una molécula, o de solo dos o tres nanómetros. Si haces más pequeño tu transistor, trabaja más rápido, obtienes mayor funcionalidad, y el costo de fabricar cada chip cae, señala Menon.
Los fabricantes de chips como Intel y AMD están creando cada vez transistores más pequeños para obtener un mejor desempeño y menos consumo de energía. Generalmente, graban los diseños de los chips en un material de vidrio llamado Photomask, el cual luego es usado para replicar el patrón en wafers de silicio.
Lo que hace Intel es repetir el patrón. Tienes un patrón y lo replicas de un Photomask justo sobre el chip, señala Menon. El enfoque de Intel involucra el uso de electrones, mientras que el del MIT involucra la creación directa de patrones vía fuentes de luz, lo cual puede ser más exacto y proporciona flexibilidad a los cambios en los diseños de manera rápida.
Si haces patrones con haces de electrones, siempre tendrás que preocuparte por la exactitud. Tus patrones podrían estar ligeramente distorsionados, lo cual podría tener un gran impacto sobre el desempeño del dispositivo. Los fotones irán donde les digas que vayan, mientras que los electrones no lo harán a nanoescala, señala Menon.
Aunque los investigadores han podido producir líneas de 36 nanómetros de ancho, Menon reconoce que la tecnología podría llegar a un límite cuando se llegue a la escala atómica. Surge la pregunta: ¿puedes hacer más pequeña la molécula? Entonces probablemente te encuentres limitado, señaló Menon.
La tecnología podría ser comercializada en cerca de cinco años mediante una escisión del MIT llamada Lumarray, de acuerdo a Menon. Es una forma de salir, ya que tenemos que resolver algunos temas de materiales y técnicas, dijo.
Agam Shah, IDG News Service